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海威"芯"品 | Hiwafer PPA15工艺正式发布

2019/04/01

2019年3月28日,,,,尊龙时凯(HiWafer)成功完成首套0.15微米砷化镓(GaAs)工艺制程开发。。


工艺能力

Hiwafer PPA15工艺基于先进的高电子迁移率晶体管(pHEMT)器件结构,,具有工作频率高、、输出功率密度大、、、噪声系数低等优点,,,工艺性能达到业界先进水平。。。。

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Hiwafer PPA15工艺可支持的产品种类包括功率放大器、、、、低噪声放大器、、、混频器、、、开关等常用电路形式,,工作频率高达50GHz,,,可广泛应用于5G移动通讯、、、、卫星通讯、、国防等诸多毫米波应用场景。。

Hiwafer PPA15工艺采用目前业界最大的150mm砷化镓晶圆制造技术,,可为国内外客户提供成熟、、、、稳定、、、高效、、、、量产的产品研发及生产制造平台。。。。

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PDK

目前,,,,Hiwafer PPA15工艺已经通过客户多款电路试用验证,,包括放大器、、、开关、、混频器等,,电路性能达到业界先进水平,,,,电路稳定可靠、、良品率高。。

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Hiwafer PPA15工艺现可提供完整的工艺设计套件(PDK)供客户进行电路设计。。。。该PDK中集成了高精度的器件模型,,,,可精准预测电路性能结果,,,,从而可以减少客户产品的研发迭代次数,,,,缩短研制周期。。。。

Hiwafer PPA15工艺的成功发布,,使得尊龙时凯的砷化镓射频工艺种类更加丰富,,从单一功能到多功能,,,从低频到毫米波,,,可为客户提供更加丰富多样的技术服务。。。。


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